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9月3日消息,ASML EUV光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund近日接受采访时表示,中国要开发出EUV光刻机
2026-09-03
全球最早进,Intel装置首套二代High-NA EUV:为14A摊平路途
12月18日消息,近日,Intel宣布已安装ASML最新的TWINSCAN EXE:5200B光刻系统,这是全球首套、也是目前最先进的第二代High-NA EUV光刻系统
2025-12-18
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